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HIPIMS和HIPIMS+
物理氣相沉積涂層(PVD 涂層)主要是由電弧蒸發或磁控濺射沉積

運用HIPIMS和HIPIMS+技術制備出致密、無缺陷的涂層

       物理氣相沉積涂層(PVD 涂層)主要是由電弧蒸發或磁控濺射沉積,高功率脈沖磁控濺射(HIPIMS)是PVD硬質涂層的第三種方法(電弧離子鍍和磁控濺射為前兩種方法),HIPIMS技術證明,高電離的優勢 (如電弧蒸發)和磁控濺射的優勢相結合是可行的,其結果是制備出良好附著力以及致密、光滑的涂層。 

       HIPIMS技術非常適用于蝕刻,由于長達8兆瓦的峰值功率,HIPIMS濺射的原子將進入到基板給予致密,并且具有強大的黏結性柱狀層,運用HIPIMS技術涂層也是可行的,但是其沉積率低于目前的濺射技術。

       匯成真空已研制出一種可替代的HIPIMS技術,即HIPIMS+技術,此技術非常適用于涂層, HIPIMS+具有較高的沉積速率,可比電弧蒸發,這使得HIPIMS+技術可廣范應用于工業領域。HIPIMS+另一個優點是能更好的利用靶材,并在保持高硬度的同時擁有可調諧的應力,一些HIPIMS+涂層適用于低溫涂層,許多不同的物理氣相沉積涂層可應用于HIPIMS+技術,如TiN, TiAlN, TiCN, CrN, Cr2N。

       HIPIMS+經測試表明適用于模具,模塊,銑刀片,螺紋車削刀片,銑刀和水龍頭,HIPIMS和HIPIMS+技術都能制備出致密,無缺陷的涂層,這兩種技術都可以在匯成真空生產的真空鍍膜設備上應用,當然也可以在匯成真空現有的PVD涂層設備上進行升級。

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